英国Ossila精密型狭缝挤出式涂布机-在小型实验室也应对自如!

英国Ossila精密型狭缝挤出式涂布机功能特征

节省空间的设计。 Ossila狭缝挤出式涂布机设计时充分考虑到实验室空间的高效利用。形体小巧，在标准实验台、通风柜，甚至在手套箱中都可以使用。

容易安装。即插即用。不需要压缩气体或真空管道，可以很容易地在不同实验室之间和不同环境之间移动。

高跨网涂层均一度。将一个简单的衣架设计应用于溶液分配，使通过涂布头宽度的流速达到均一。这样使所有粘度范围的溶液涂布都能达到非常高的均一性。不锈钢材质狭缝挤出式涂布头可兼容的材料范围非常广泛。

通道厚度可变。不锈钢垫片可互换，用户可以改变狭缝挤出通道厚度。这就拓展了单一狭缝挤出头可处理的不同溶液范围。用户可以插入多个垫片来改变通道厚度，梯度以100μm递增。

均一的流率和厚度。我们的狭缝挤出式涂布系统带有一个内置注射泵。用户可以精确控制达到狭缝挤出系统的溶液量，从而对沉积膜的厚度进行精确和可重复的控制。内置注射器泵是由相同的内部软件进行控制，不需要任何外部控制，你可以编程你的实验的同步开始时间。

温度控制。平台有一个内置电热板，基片温度可以控制在高120°C。此外，可以在软件中设置环境高气流的温度补偿，以纠正基片和电热板温度之间的差异。基片温度的控制通过减少溶液的表面张力来提高溶液润湿度，同时干燥率可以设置，使你可以改变沉积薄膜的纳米结构。

基片速度范围广泛。我们的机动平台能够平滑连续的运动。电机移动速度从低至1毫米/分钟，快可达50 mm/秒。该系统具有广泛的加工窗口，用于弯月面的控制。

精准定位。通过使用三点调平系统和高精度测微仪可以精确调整平台和涂布头之间的位置。仔细对齐可以使系统在平台行程范围内实现低至1um/厘米的高度变化。

涂布头高度控制。涂布头架上方预留了两个微米的空间，用于调节涂布头和平台之间的位置。通过改变高度可以提高弯月面的稳定性，并可以改变湿膜小厚度。

英国Ossila精密型狭缝挤出式涂布机内置软件

Ossila其他产品的直观的且易操作的内置软件已纳入我们的狭缝挤出式涂布机。全彩液晶显示器，视野清晰明亮，内置软件可进行多步骤复杂编程，使你可以独立控制系统的不同部分。所有部件都是内置的，不需要任何外部计算机控制-经济，节省实验室空间。

狭缝挤出式涂布系统能够保存20个不同的程序，每个程序步骤多达50步。进行步骤编程时，用户可以选择不同的溶液分配流速、分配体积、分配时间、平台速度，以及平台移动距离。结合操作简单的控制面板和用户界面，系统编程可以很快完成。

像我们的注射泵系统一样，我们的狭缝挤出式涂布机也有各种安全特性，以确保用户的安全。注射泵有大力量设置，可以减少玻璃注射器受损的机会。此外，安全互锁装置会在行程结束时锁住系统，防止系统坠落(注射泵和电动平台均适用)。

英国Ossila精密型狭缝挤出式涂布机应用领域

狭缝挤出式涂布机应用范围广泛，包括:

· 有机光伏电池

· 有机场效应晶体管

· 导电聚合物

· 纳米线和纳米管

· 二维材料

· 有机发光二极管和钙钛矿发光二极管

· 钙钛矿光伏电池

· 锂离子电池的电解质和电极

· 染色敏感性太阳能电池

和多的应用……

英国Ossila精密型狭缝挤出式涂布机技术规格

请注意：技术规格可能会有变更。如果有任何具体细节你想知道但未列出，请与我们联系。

英国Ossila精密型狭缝挤出式涂布机技术概述

兼容辊对辊沉积工艺—狭缝挤出式涂布是许多种可以纳入基于辊对辊和板对板沉积工艺众多沉积方法之一。此方法的优点是可以通过将涂布机集成到一个在线系统中，以达到提升产量、大幅度降低薄膜电子设备的整体生产成本的目的。

简单可靠—狭缝挤出式涂布是一种可靠的制造薄湿膜片的技术，多米长度涂层厚度变化小于2%。涂层厚度是通过改变溶液流量、基片速度进行控制。通过对几个不同几何参数的设置可以降低涂层缺陷的机率(不改变涂层厚度)。

研究领域应用—尽管狭缝挤出式涂布是一项非常强大的技术，但在薄膜电子应用领域的研究和开发目前非常有限。因为它主要是一项工业技术，即使简单的系统价格也很高，因为狭缝挤出式涂布机的制造商定位的是工业领域而非学术界。此外，这些常规的涂布系统通常很大、很复杂，对于刚刚开始沉积薄膜开发所需的处理技术的科研人员来说并不适合。Ossila的 狭缝挤出式涂布机形体小巧，操作方便，适合在实验室使用，这使科研人员在实验室中使用狭缝挤出式涂布机成为可能，并使科研人员能够优化溶剂配方和工艺参数—而不需要大量的打印运行。最终，Ossila狭缝挤出式涂布将有助于研究人员确保他们的研究结果在实际大规模应用中的落地。

膜片厚度可控- 狭缝挤出式涂布是一种前测量涂层技术，湿膜沉积的厚度仅取决于溶液流量、底片速度和涂层宽度。当把溶液浓度和材料密度考虑在内，就有可能确定干膜厚度，即下述的方程：

方程调节的是狭缝挤出式涂层的厚度。d是涂层厚度(厘米),f是流量(立方厘米/分钟),v是涂层速度(厘米/分钟),w是涂层宽度(厘米),c是溶剂浓度(克/立方厘米),ρ是干膜的密度(克/立方厘米)。

无缺陷涂层 - 狭缝挤出涂布依赖于稳定的涂层珠的形成。这个珠由上游和下游的半月面组成，需要固定在狭缝挤出涂布头的边缘。通过来自平衡涂布头的流量和基片表面的粘性流，这个珠可以稳定下来。用户可以改变各种参数，来改变这两个相互竞争的流—这包括溶液流量、底片速度，涂布头高度，溶液润湿度和狭缝挤出头通道厚度。这可以有多种方式，在稳定的涂层加工窗口可以应用多种方式，从而获得无缺陷的膜片。