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光电轮廓仪WGL
型号:
订货号:
厂家:
价格:面议
区域:北京
     特点:本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法,测量时不损伤工件表面,能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形,并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度;标尺、度盘的刻线深度;光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌;磁(光)盘、磁头表面结构测量;硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。

    由于仪器测量精度高,具有非接触和三维测量的特点,并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果,本仪器适用于各级测试、计量研究单位工矿企业计量室,精密加工车间,也适用于高等院校和科学研究单位等。

    主要技术参数

    表面微观不平深度测量范围

    在连续表面上,相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时:1000 1nm

    相邻二象素之间含有大于1 / 4 波长的高度突变时:130 1nm

    测量的重复性:δRa 0.5nm

    物镜倍率:40X

    数值孔径:Φ 65      

    工作距离:0.5mm

    仪器视场  目视Φ0.25mm

     

     

     

     

     

    摄象(计算机屏幕观察)一2500×

    接收器测量列阵:1000X1000

    象素尺寸:5.2×5.2µm

    测量时间采样(扫描)时间:1S

    仪器标准镜     反射率(高)50 %

    反射率(低)4 %

    照明光源:白炽灯6V 5W

    绿色干涉滤光片波长:λ≒530nm  

    半宽度λ≒10nm  

    主显微镜升程:110 mm

    工作台升程:5 mm

    、丫方向移动范围10 mm

     

     

     特点:本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法,测量时不损伤工件表面,能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形,并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度;标尺、度盘的刻线深度;光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌;磁(光)盘、磁头表面结构测量;硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。

    由于仪器测量精度高,具有非接触和三维测量的特点,并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果,本仪器适用于各级测试、计量研究单位工矿企业计量室,精密加工车间,也适用于高等院校和科学研究单位等。

    主要技术参数

    表面微观不平深度测量范围

    在连续表面上,相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时:1000 1nm

    相邻二象素之间含有大于1 / 4 波长的高度突变时:130 1nm

    测量的重复性:δRa 0.5nm

    物镜倍率:40X

    数值孔径:&pHi; 65      

    工作距离:0.5mm

    仪器视场  目视Φ0.25mm

    摄象(计算机屏幕观察)一2500×

    接收器测量列阵:1000X1000

    象素尺寸:5.2×5.2µm

    测量时间采样(扫描)时间:1S

    仪器标准镜     反射率(高)50 %

    反射率(低)4 %

    照明光源:白炽灯6V 5W

    绿色干涉滤光片波长:λ≒530nm  

    半宽度λ≒10nm  

    主显微镜升程:110 mm

    工作台升程:5 mm

    、丫方向移动范围10 mm

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