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EX-1000荧光粉激发光谱与热猝灭分析系统
EX-1000荧光粉激发光谱与热猝灭分析系统可测量荧光材料激发光谱特性和发射光谱特性，有利于筛选高效的激发光源，或者在激发光源特定的前提下，改进荧光材料的激发光谱特性，以实现更高的激发-发光转换效率。并可测量荧光材料在真实工作状态（高温状态）下的发光特性（热猝灭特性），避免用其常温特性来代替真实的工作状态，确保荧光材料发光质量。
EX-1000荧光粉激发光谱特性和热猝灭分析系统是一台综合型的荧光粉测量仪器，可为灯用稀土三基色荧光粉和白光LED灯用稀土黄色荧光粉等各类荧光粉的研发和质量控制提供全面客观的测量数据。
EX-1000荧光粉激发光谱与热猝灭分析系统可测量荧光材料激发光谱特性和发射光谱特性，有利于筛选高效的激发光源，或者在激发光源特定的前提下，改进荧光材料的激发光谱特性，以实现更高的激发-发光转换效率。并可测量荧光材料在真实工作状态（高温状态）下的发光特性（热猝灭特性），避免用其常温特性来代替真实的工作状态，确保荧光材料发光质量。
EX-1000荧光粉激发光谱特性和热猝灭分析系统是一台综合型的荧光粉测量仪器，可为灯用稀土三基色荧光粉和白光LED灯用稀土黄色荧光粉等各类荧光粉的研发和质量控制提供全面客观的测量数据。
EX-1000荧光粉激发光谱与热猝灭分析系统
主要技术指标：
1、激发光谱范围：200～800nm；
2、激发光谱带宽：1～10nm可调；
3、激发波长精度：±0.3nm；
4、激发光源稳定度：±1%；
5、发射光谱测量装置：HAAS-2000高精度快速光谱辐射计，采用精密凹面平场光栅和HAMAMATSU科学级制冷CCD；
6、发射光谱测量范围：380～780nm；
7、发射光谱波长测量精度：±0.3nm；
8、色品坐标准确度：±0.0003（标准A光源下）；
9、色品坐标重复性：±0.00015x，±0.0002y（恒温蓝光LED）；
10、光度线性：±1%；
11、光度重复性：±1%；
12、温度控制：室温至200℃；（温度在150℃-200℃时，建议工作时间为10分钟）；
13、温度控制精度：±2%；
14、粉盘尺寸：内径&pHi;20mm，深3mm，边缘小于0.5mm，不锈钢；
15、激发/观察条件：CIE 0/45；
16、具备三维激发-发射光谱图、二维激发光谱图、二维发射光谱图、温度-亮度。
EX-1000荧光粉激发光谱与热猝灭分析系统
主要技术指标：
1、激发光谱范围：200～800nm；
2、激发光谱带宽：1～10nm可调；
3、激发波长精度：±0.3nm；
4、激发光源稳定度：±1%；
5、发射光谱测量装置：HAAS-2000高精度快速光谱辐射计，采用精密凹面平场光栅和HAMAMATSU科学级制冷CCD；
6、发射光谱测量范围：380～780nm；
7、发射光谱波长测量精度：±0.3nm；
8、色品坐标准确度：±0.0003（标准A光源下）；
9、色品坐标重复性：±0.00015x，±0.0002y（恒温蓝光LED）；
10、光度线性：±1%；
11、光度重复性：±1%；
12、温度控制：室温至200℃；（温度在150℃-200℃时，建议工作时间为10分钟）；
13、温度控制精度：±2%；
14、粉盘尺寸：内径&pHi;20mm，深3mm，边缘小于0.5mm，不锈钢；
15、激发/观察条件：CIE 0/45；
16、具备三维激发-发射光谱图、二维激发光谱图、二维发射光谱图、温度-亮度。
EX-1000荧光粉激发光谱与热猝灭分析系统